基本概念
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机本身是大型光电设备，是制造芯片的硬件设备，本身就是以台为单位。但这样描述没什么意义，通常来说是按光刻机的工艺制程纳米来描述。
比如同样是193纳米深紫外光光源的光刻机，通过浸润式可以压缩到143纳米，通过物镜组可以压缩到90、55、28纳米等，所以一般用纳米制程来表示单位。
光刻机是一种半导体制造设备，用于将芯片设计图案转移到硅片上。它通过使用光学透镜和光掩膜来控制光线的传播和反射，将光线聚焦在硅片表面上，形成微小的图案。光刻机的精度和速度是制造芯片的关键因素之一，因此它在半导体制造业中扮演着重要的角色。随着技术的不断进步，光刻机的分辨率和精度也在不断提高，为芯片制造提供了更高效、更精确的工具。
光刻机（Lithography）是一种用于制造微电子芯片、半导体器件和其他微纳米加工工艺的关键设备。光刻机是通过将光线聚焦在掩膜上，然后将光投射到感光材料上来形成微小图案的过程。以下是光刻机的工作原理、类型和应用领域。
