PVD是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)的缩写，是一种用于在基材表面生成薄膜的技术，其基本原理是通过物理方法将材料气化，再沉积到基材表面形成涂层，PVD技术包括蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜等。
