光刻机(Lithography Machine)是一种用于半导体芯片制造的关键设备，它将电路图案转移到硅片上，是集成电路制造过程中的核心步骤之一，光刻机的工作原理是利用光刻胶、紫外线和光刻板之间的相互作用，在硅片表面精确复制微小的结构图案，光刻机可以分为接触式光刻机和非接触式光刻机两大类。
接触式光刻机通过将光源、光学元件、掩模等部件移动到硅片表面，与硅片直接接触，实现对光刻胶的曝光，这种光刻机具有较高的分辨率和精度，但操作复杂，成本较高，目前主要用于先进制程的芯片生产。
非接触式光刻机则采用激光束或电子束等高速光源，将光线聚焦在光刻胶表面，实现对光刻胶的曝光，这种光刻机具有操作简便、成本较低的优点，广泛应用于中低端芯片的生产，随着科技的发展，非接触式光刻技术也在不断进步，例如使用3D打印技术制作掩模，可以实现更高的生产效率和降低成本。
光刻机是半导体芯片制造过程中不可或缺的设备，它的发展和进步对于提高芯片性能和降低成本具有重要意义。
